 |
| > Lisää uutisia |
|
oulun.yliopisto(at)oulu.fi |
 |
||||||
|
||||||
 |
||||||
| UUTISIA OULUN YLIOPISTOSTA | ||||||
|
20.2.2008 Oulun yliopisto mukana nanoteknologiayhteistyössä Japanin kanssaJapanilainen erikoiskemikaaliyritys NOF ja suomalainen yritys- ja tutkimuskonsortio, jossa Oulun yliopisto on mukana, ovat syventäneet yhteistyötään. Yhteistyön uusin askel julkistettiin maailman suurimmilla nanoteknologian messuilla Tokiossa viime viikolla. Oulun yliopiston tutkimusryhmä odottaa innokkaasti tutkimustulostensa hyödyntämistä uusissa tuotteissa. ”Tämä yhteistyö tekee mahdolliseksi maailman huippuluokan tutkimuksen ja voi johtaa uusiin läpimurtoihin langattomien laitteiden komponenttien kehittämisessä,” sanoo professori Heli Jantunen Oulun yliopistosta. Yhteistyö on osin Tekesin rahoittamaa. ”Vaikka Suomessa on maailman johtavia elektroniikkayrityksiä ja yliopistotutkimusta, täällä vain harvalla yrityksellä on yhtä syvällistä materiaalien asiantuntemusta kuin NOF Corporationilla. Tämä FinNano-ohjelmassa rakennettu yhteistyö antaa suomalaisyrityksille pian mahdollisuuksia uusiin todella innovatiivisiin sovelluksiin”, toteaa ohjelman päällikkö Markku Lämsä Tekesistä. ”Uudet yhteistyössä kehitettävät komposiittimateriaalit voivat vähentää tietoliikenteessä tapahtuvaa signaalin heikkenemistä sekä lisätä välitysnopeuksia ja luoda siten uusia tietoliikenteen käyttömahdollisuuksia,” kuvaa johtaja Toyohisa Kobayashi NOF Corporationista tutkimuksen tavoitteita. Tokiossa seitsemättä kertaa järjestetyillä Nanotech-messuilla kävi noin 50 000 vierailijaa. Mukana oli yli 520 näytteilleasettajaa 24 maasta. Suomalainen nanoteknologian osaaminen esiintyi Nanotech 2008 -messuilla ennätyssuurella delegaatiolla.
|
||||||
|
|